除去最先进的EUV，这些光刻机也不容忽视
发布时间：2021-10-30 13:51:23 所属栏目：动态 来源：互联网
导读：涂胶显影机用于将特殊的化学液体涂在硅片上作为半导体材料进行显影，是光刻环节中重要的配套设备。作为光刻机的输入（曝光前光刻胶涂覆）和输出（曝光后图形的显影），涂胶/显影机的性能直接影响到细微曝光图案的形成，其显影工艺的图形质量和缺陷控制对后续
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涂胶显影机用于将特殊的化学液体涂在硅片上作为半导体材料进行显影，是光刻环节中重要的配套设备。作为光刻机的输入（曝光前光刻胶涂覆）和输出（曝光后图形的显影），涂胶/显影机的性能直接影响到细微曝光图案的形成，其显影工艺的图形质量和缺陷控制对后续诸多工艺（诸如蚀刻、离子注入等）图形转移结果也有着深刻的影响。东京电子是该领域的主要供应商。
生产光刻机要完善生态环境
近年来，中国也在积极发展光刻产业。中国半导体行业协会集成电路分会理事长叶甜春此前在接受记者采访时指出，中国集成电路产业的发展要将产业基础做实，而不是一味追求最顶尖的那些。
莫大康也指出，高性能光刻技术对中国企业来说成本高昂，但是其战略意义不容忽视。中国要推进完整的光刻工业体系的发展，只能采取从低到高的策略。
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